技術(shù)編號(hào):42041349
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開(kāi)涉及光刻膠,具體涉及一種光刻膠組合物及其制備方法、應(yīng)用。背景技術(shù)、自世紀(jì)年代以來(lái),光刻技術(shù)已經(jīng)成為半導(dǎo)體工業(yè)中的基本制造工藝,并且廣泛應(yīng)用于芯片的開(kāi)發(fā)。光刻膠一直是光刻技術(shù)進(jìn)步的決定性因素,因?yàn)楣饪碳夹g(shù)的本質(zhì)是通過(guò)光刻膠來(lái)生成微納圖案。通常光刻膠經(jīng)過(guò)旋涂形成一定厚度、具有光解溶解度轉(zhuǎn)變和抗蝕刻性的膜層,因此可快速用于制造納米結(jié)構(gòu)。通過(guò)刻蝕可將光刻的微納圖案轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基板上。傳統(tǒng)光刻工藝包括:晶圓前處理、覆膜、涂膠、旋涂后烘烤(pab)、曝光、曝光后烘烤(peb)、顯影、蝕刻等步驟...
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