技術(shù)編號：42041601
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻設(shè)備，尤其涉及一種光刻設(shè)備中物鏡中心偏移的測量方法及裝置。背景技術(shù)、光刻設(shè)備是制造芯片的核心裝置，可以將掩膜版上的精細(xì)圖案經(jīng)過曝光印制到基板上。光刻設(shè)備在進(jìn)行光刻工藝前，需要對運動臺和物鏡的投影中心進(jìn)行校準(zhǔn)，以確保光刻工藝精確執(zhí)行。、為對運動臺和物鏡的投影中心進(jìn)行校準(zhǔn)，需要先測量出物鏡的中心偏移。相關(guān)技術(shù)中，可采用場成像對準(zhǔn)技術(shù)來定位中心偏移。場成像對準(zhǔn)技術(shù)是從掩膜版上設(shè)計一些測量圖案，然后在硅片上指定的位置進(jìn)行曝光，最后提取這些圖像中指定特征點坐標(biāo)，計算這些特征點坐標(biāo)的平均值...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。