本發(fā)明涉及pcb蝕刻，更具體地涉及一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備。
背景技術(shù)：
1、隨著全球電子產(chǎn)品市場的需求升級和快速擴張，電子產(chǎn)品的小型化、高精度和超細印刷電路板技術(shù)正進入快速發(fā)展期。為了滿足市場日益增長的需求，特別是在超精細電路技術(shù)領域，傳統(tǒng)的后向刻蝕技術(shù)正在被先進的pcb蝕刻技術(shù)所取代。
2、現(xiàn)有技術(shù)的不足之處：現(xiàn)有蝕刻的方式主要有浸泡、鼓泡、潑濺和噴淋蝕刻。浸泡和鼓泡蝕刻會造成較大的側(cè)蝕，潑濺和噴淋蝕刻產(chǎn)生的側(cè)蝕較小，雖然噴淋蝕刻側(cè)蝕最小，蝕刻效果最好，但現(xiàn)市場上二流蝕刻和真空蝕刻技術(shù)，線路在蝕刻減成法線寬線距只能做到8μm/8μm以上，做不到3μm/3μm以下微細線路，主要影響因素及不足：1、噴淋壓力均勻性不能滿足100％，2、噴淋流量及覆蓋面積均衡不夠穩(wěn)定，3、噴淋產(chǎn)生的霧化顆?？梢宰龅?0μm以下，其中3μm以下顆粒的占比很小，故對線寬線距不到3μm的產(chǎn)品滲透性很差。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為了克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，本發(fā)明提供了一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，以解決上述背景技術(shù)中存在的問題。
2、本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，包括儲液箱，所述儲液箱上端固定連接有電解蝕刻箱，所述電解蝕刻箱內(nèi)固定連接有導向桿，所述導向桿圓周面滑動連接有導向輪，所述導向輪內(nèi)轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸右端固定連接有噴盤，所述噴盤右端固定連接有鈦陰極板，所述電解蝕刻箱上端左右兩側(cè)均固定連接有底板，所述底板上端固定連接有導向柱，所述導向柱圓周面滑動連接有滑板，所述滑板上端固定連接有連接板，所述左側(cè)的連接板與噴盤固定連接，所述右側(cè)的連接板固定連接有安裝架，所述安裝架內(nèi)設置有快拆，所述快拆內(nèi)固定連接有pcb基板；
3、優(yōu)選的，所述噴盤內(nèi)開設有第一流道和第二流道，所述第一流道輸出端固定連接有噴嘴，所述第二流道輸出端固定連接有吸管。
4、優(yōu)選的，所述鈦陰極板表面開設有多個通孔，所述通孔均與噴嘴和吸管對應。
5、優(yōu)選的，所述電解蝕刻箱前端固定連接有輸入管和回流管，所述輸入管通過波紋軟管與第一流道之間固定連接，所述回流管通過波紋軟管與第二流道之間固定連接。
6、優(yōu)選的，所述輸入管之間通過第一連接管連接，所述回流管之間通過第二連接管連接，所述第一連接管輸入端與儲液箱內(nèi)的噴淋泵之間固定連接，所述第二連接管輸入端與儲液箱內(nèi)的真空泵之間固定連接。
7、優(yōu)選的，所述底板上端固定連接有轉(zhuǎn)動架，所述轉(zhuǎn)動架內(nèi)轉(zhuǎn)動連接有驅(qū)動軸，所述驅(qū)動軸圓周面固定連接有凸輪，所述凸輪圓周面滑動連接有導向架，所述導向架與滑板之間固定連接。
8、優(yōu)選的，所述底板上端固定連接有定位架，所述定位架后端固定連接有電機，所述電機輸出端與驅(qū)動軸之間固定連接，所述驅(qū)動軸與定位架之間轉(zhuǎn)動連接。
9、優(yōu)選的，所述儲液箱上端固定連接有清洗箱，所述清洗箱內(nèi)依次設置有第一水洗槽、酸洗槽、第二水洗槽和風干槽。
10、本發(fā)明的技術(shù)效果和優(yōu)點：
11、1.本發(fā)明通過將鈦陰極板固定在噴盤右端，然后再將pcb基板通過快拆固定在安裝架上，然后通過外界的整流機將適量電流給到鈦陰極板形成電場，結(jié)合儲液箱內(nèi)得到藥水與pcb基板表面的銅產(chǎn)生電化學反應，解決了噴淋結(jié)構(gòu)反應均勻性不足的問題。
12、2.本發(fā)明通過噴盤結(jié)構(gòu)中的噴嘴噴灑和吸管吸附，保證電場離子流動及均勻性，而直流電源提供適量的電流時，會使得陽極上的金屬離子向陰極方向遷移，同時在陽極上發(fā)生氧化反應，金屬離子被氧化為金屬離子，從而實現(xiàn)了對金屬表面的刻蝕。離子反應遷移解決了霧化顆粒分子不夠小且不均勻的情況，再通過滑塊在導向柱圓周面進行上下往復滑動，帶動噴盤和鈦陰極板與安裝架和pcb基板上下往復滑動使之反應更加充分及覆蓋面更廣。
1.一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，包括儲液箱(1)，其特征在于：所述儲液箱(1)上端固定連接有電解蝕刻箱(2)，所述電解蝕刻箱(2)內(nèi)固定連接有導向桿(3)，所述導向桿(3)圓周面滑動連接有導向輪(4)，所述導向輪(4)內(nèi)轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)動軸(5)，所述轉(zhuǎn)動軸(5)右端固定連接有噴盤(6)，所述噴盤(6)右端固定連接有鈦陰極板(7)，所述電解蝕刻箱(2)上端左右兩側(cè)均固定連接有底板(8)，所述底板(8)上端固定連接有導向柱(9)，所述導向柱(9)圓周面滑動連接有滑板(10)，所述滑板(10)上端固定連接有連接板(11)，所述連接板(11)與噴盤(6)固定連接，所述連接板(11)固定連接有安裝架(12)，所述安裝架(12)內(nèi)設置有快拆(13)，所述快拆(13)內(nèi)固定連接有pcb基板(14)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，其特征在于：所述噴盤(6)內(nèi)開設有第一流道(15)和第二流道(16)，所述第一流道(15)輸出端固定連接有噴嘴(17)，所述第二流道(16)輸出端固定連接有吸管(18)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，其特征在于：所述鈦陰極板(7)表面開設有多個通孔(19)，所述通孔(19)均與噴嘴(17)和吸管(18)對應。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，其特征在于：所述電解蝕刻箱(2)前端固定連接有輸入管(20)和回流管(21)，所述輸入管(20)通過波紋軟管(22)與第一流道(15)之間固定連接，所述回流管(21)通過波紋軟管(22)與第二流道(16)之間固定連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，其特征在于：所述輸入管(20)之間通過第一連接管(23)連接，所述回流管(21)之間通過第二連接管(24)連接，所述第一連接管(23)輸入端與儲液箱(1)內(nèi)的噴淋泵之間固定連接，所述第二連接管(24)輸入端與儲液箱(1)內(nèi)的真空泵之間固定連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，其特征在于：所述底板(8)上端固定連接有轉(zhuǎn)動架(25)，所述轉(zhuǎn)動架(25)內(nèi)轉(zhuǎn)動連接有驅(qū)動軸(26)，所述驅(qū)動軸(26)圓周面固定連接有凸輪(27)，所述凸輪(27)圓周面滑動連接有導向架(28)，所述導向架(28)與滑板(10)之間固定連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，其特征在于：所述底板(8)上端固定連接有定位架(29)，所述定位架(29)后端固定連接有電機(30)，所述電機(30)輸出端與驅(qū)動軸(26)之間固定連接，所述驅(qū)動軸(26)與定位架(29)之間轉(zhuǎn)動連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種處理微細線路3μm/3μm以下垂直電解減成法濕法設備，其特征在于：所述儲液箱(1)上端固定連接有清洗箱(31)，所述清洗箱(31)內(nèi)依次設置有第一水洗槽(311)、酸洗槽(312)、第二水洗槽(313)和風干槽(314)。