1.一種用于從待清潔的表面移除污染粒子的清潔裝置，所述清潔裝置包括：
2.根據(jù)權利要求1所述的清潔裝置，其中，所述清潔裝置被配置成定位成與所述待清潔的表面相對。
3.根據(jù)任一前述權利要求所述的清潔裝置，包括：被配置成在所述清潔裝置與所述待清潔的表面之間產生相對移動的致動系統(tǒng)。
4.根據(jù)權利要求3所述的清潔裝置，其中，所述氧氣源、所述電子源和所述污染粒子收集器相對于彼此而被布置成使得：
5.根據(jù)任一前述權利要求所述的清潔裝置，包括：
6.根據(jù)權利要求5所述的清潔裝置，其中，所述清潔參數(shù)是以下各項中的至少一項：
7.根據(jù)任一前述權利要求所述的清潔裝置，其中，所述污染粒子收集器被布置成相對于所述氧氣源和所述電子源成一角度，使得在所述污染粒子收集器面向的方向與所述表面之間形成銳角。
8.根據(jù)權利要求7所述的清潔裝置，其中，所述銳角在約10°至約75°的包括端值10°和75°的范圍內。
9.根據(jù)任一前述權利要求所述的清潔裝置，包括：
10.根據(jù)任一前述權利要求所述的清潔裝置，包括：被布置成清潔陣列的多個氧氣源、電子源和污染粒子收集器。
11.一種襯底處理設備，包括根據(jù)任一前述權利要求所述的清潔裝置。
12.根據(jù)權利要求11所述的襯底處理設備，其中，所述待清潔的表面是所述污染粒子從其發(fā)出并行進至將要由所述襯底處理設備處理的襯底的表面。
13.根據(jù)權利要求12所述的襯底處理設備，其中，所述待清潔的表面為以下各項中的至少一項：
14.一種從待清潔的表面移除污染粒子的方法，所述方法包括：
15.一種處理襯底的方法，包括根據(jù)權利要求14所述的方法。